Фоторезиста

В полупроводниковом производстве используют несколько моделей

одно-, двух-, трех-, четырех- и шестикамерных установок плазмохимического удаления фоторезиста, которые обладают некоторыми особенностя­ми. Все установки имеют различные по конструкции реакционно-разряд­ные камеры и системы возбуждения высокочастотного разряда, создаю­щие равномерную и оптимальною концентрацию плазмы в зоне обработ­ки полупроводниковых пластин.

В реакционно-разрядных камерах, которые бывают цельными и сборными, удаление фоторезиста происходит непосредственно. Основное требование для проведения процесса с высоким качеством - это созда­ние равномерного газового потока через находящиеся в кассете полупроводниковые пластины. Разработано несколько типов реакционноразрядных камер.

Как показали исследования, для получения однородной газовой низкотемпературной плазмы в направлении оси камеры необходимо определенным образом подавать и отводить газ и соответственно распо­лагать систему возбуждения разряда. Для этого в камерах, показанных на рисунке ниже, отверстия для подачи газа расположены под углом 60—90° к внешней поверхности реакционной трубки (чтобы газ по­ступал к центру), а для его выхода — с задней стороны камеры.

Реакционно-разрядные камеры с подачей газа по четырем направлениям с равномерным рассредоточением потока (г) по отдельным трубкам и четырехсторонним рассредоточением потока (д)

1 - камера, 2 - вакуумное уплотнение, 3 - крышка камеры, 4 - электроды возбуждения разряда, 5 - оболочка камеры, 6 - откачной фланец

В камере такой конструкции с индукционным возбуждением разряда однородность плазмохимической обработки пластин с фоторезистом составляет ±5 %. Желательно, чтобы скорость отвода газов была при­мерно 500 л/мин, тогда давление в камере поддерживается от 13 до 133 Па.

Экспериментально установлено, что диаметр реакционно-разрядной камеры должен быть в 2—3 раза больше диаметра обрабатываемых пластин. Длина камеры определяется количеством обрабатываемых пластин при условии зазора между ними 4—5 мм. Параметры системы возбуждения ВЧ-разряда и мощность ВЧ-генератора зависят от геометри­ческих размеров камеры. Камеры и кассеты обычно изготовляют из кварца или термостойкого стекла.

8.3