При производстве полупроводниковых интегральных микросхем применяется фотолитография и литографическое оборудование.
Разрешающая способность этого оборудования (т.н. проектные нормы) и определяет название применяемого техпроцесса.
Пример:
Процессоры Intel (Core 2 Duo) делают по УФ-технологии 0,045 мкм;
видеопроцессоры и flash-память фирмы Samsung - 0,040 мкм);
Процессоры Intel Core i3 -i7- тех. процесс - 0,032 мкм.