Такое напыление основано на свойстве атомов (молекул) металлов и некоторых других материалов при испарении в условиях высокого вакуума перемещаться прямолинейно (лучеобразно) и осаждаться на поверхности, поставленной на пути их движения.
Установка для напыления в вакууме (рис. 15.3) состоит из плоской плиты 6, на которой устанавливается стеклянный или металлический колпак 9. В последнем случае он снабжается смотровым стеклом. На плите предусмотрены два изолированных вакуумплотных вывода 4 для питания испарителя 3. На некотором расстоянии от испарителя помещается подложка 10, на которую наносится тонкая пленка. Подложка нагревается и до достижения заданного режима закрыта заслонкой 1.
Рис. 15.3. Установка для термического напыления в вакууме:
1 - заслонка; 2 - испаряемый материал: 3 - испаритель; 4 - вакуумплотные выводы;
5 - герметизирующая прокладка; 6 - плита; 7 - присоединение к вакуумному насосу;
8 - изолятор выводов; 9 - колпак; 10 - подложка; 11- держатель подложки; 12 – нагреватель.
|
|
Процесс осаждение состоит из трех этапов:
1. Перевод напыляемого материала в парообразное состояние. Испаряемый материал нагревается до тех пор, пока давление паров не превысит давление остаточных газов. Температура испарения может достигать 1800°, а в вакууме 1205°.
2. Перенос пара от источника испарения к подложке. Область переноса составляет 10–20 см.
3. Конденсация пара на подложке, и образование плёнки. Она зависит от температуры подложки и плотности атомарного потока.