2015-07-04
344
Технология изготовления полимерных флексографских (цилиндрических и пластинчатых) форм прямым лазерным гравированием – технология LEP – Laser Engraved Plate.
Достоинства лазерного гравирования:
- экономичность;
- одностадийность, бесконтактность процесса;
- высокая повторяемость менее 1 % по окружности.
Рельефное изображение на форме получается в результате удаления материала под действием лазерного излучения. Образующаяся пыль, аэрозоль и другие летучие компоненты улавливаются вентиляционной системой и очищаются.
Основной недостаток технологии – невысокая скорость гравирования, равная 0,06 кв.м. /час при глубине пробельных элементов 1 мм, которую можно повысить при гравировании несколькими лучами. Скорость составит 0,55-0,7 кв.м/час при глубине пробельных элементов 0,6 мм. Многолучевое гравирование приводит к удорожанию устройства.
Полимерные формные материалы. Полимерные материалы должны обладать достаточной чувствительностью в ИК-диапозоне длин волн и удовлетворять требованиям печатного процесса по печатно-эксплуатационным показателям:
- тиражестойкости;
- твердости;
- устойчивости к растворителям печатных красок.
Свойства полимерных материалов:
- высокая теплоемкость;
- неспособность к пространственной полимеризации;
- большая твердость по сравнению с используемыми в аналоговых технологиях;
- наличие в составе поглощающих ИК-излучение частиц черного цвета при использовании для гравирования лазеров ИК-диапозона длин волн (твердотелых и волоконных).
Гравировальные устройства. В гравировальных устройствах используется неподвижный лазерный источник и подвижный барабан, обеспечивающий перемещение формного материала перед лазерным лучом. Они оснащены одним или несколькими лазерными источниками мощностью по 250-300 Вт каждый.
В устройствах применяются лазеры на СО2, а также твердотелые и волоконные лазеры.
Растровые точки получаются с Sотн, равной 1-2 % при линиатуре растрирования 60 лин/см, отдельно стоящие минимально воспроизводимые точки имеют размер - 20 мкм.
Использование лазеров в ближней ИК-области спектра позволяет осуществить гравирование изображения с линиатурой 70 лин/см и более, благодаря получению лазерного пятна меньшего размера.
Разрешение записи устройств для гравирования от 1270 до 2032 dpi, в них задается различная глубина гравирования, параметры, изменяющие крутизну профиля гравируемой ячейки.
Использование двух лазеров, один из которых действует в верхней части будущего печатающего элемента (подрезает его), а другой гравирует основание печатающего элемента, позволяет получить печатающие элементы различной высоты хорошо закрепленные на основании.
Это обеспечивает тиражестойкость форм до 4 млн. отт.
Применение для гравирования двух типов лазеров, например, лазера на СО2
для предварительного формирования профиля печатающих элементов и твердотелого лазера, формирующего боковые грани заранее определенной формы, расширяет возможности технологии прямого лазерного гравирования.
