Силановый метод эпитаксии

Силановый метод основан на использовании необратимой реакции термического разложения силана:

Совершенные эпитаксиальные слои получаются при температурах 1000° -1050°С, что на 200° - 150°С ниже, чем в хлоридном методе. Это уменьшает нежелательное проникновение примеси из пластины в эпитаксиальный слой, что позволяет изготавливать эпитаксиальные структуры с более резкими границами переходов.

Скорость роста слоев выше, чем в хлоридном методе.

К недостаткам метода относятся самовоспламеняемость и взрывоопасность силана, поэтому на практике применяют силан в смеси с водородом. При содержании силана менее 5 % смесь не самовоспламеняется.

После проведения процесса эпитаксии контролируют толщину, удельное сопротивление, плотность структурных дефектов эпитаксиального слоя.

Тема: Окисление

Урок