Способы изготовления тонких пленок

Термовакуумное испарение.

Рис. 2-10 Принцип термовакууумного испарения

1- базовая плита; 2 – проходной изолятор; 3 – токопровод; 4 герметизация колпака; 5- колпак; 6- подвижный экран; 7- подложка; 8 – держатель подложки; 9 – подогреватель; 10- соударение с молекулой остаточного газа; 11- испаряемое вещество; 12 – испаритель (тигель, лодочка); 13 – присоединение к вакуумному насосу

Сущность процесса состоит в переводе осаждаемого материала с помощью нагрева в парогазовую фазу. Образующийся при этом парогазовый поток в высоком вакууме распространяется прямолинейно, так как отсутствует соударение с молекулами остаточного газа - длина свободного пробега молекул в остаточном газе на порядок превышает расстояние от источника до подложки; газ попадает на подложку, поверхность которой холоднее источника пара, При этом происходит конденсация и образование плёнки. Давление остаточных газов составляет 10^-8 –10^-4Па

Адгезионную прочность и структурную стабильность обеспечивают чистота и подогрев подложки до 300-600  С. Адгезионную прочность увеличивают путём нанесения промежуточного слоя, с хорошей адгезией к материалу подложки и плёнки. Так для нанесения плёнки золота на стекло адгезионным подслоем является хром.